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- 用改进曝光模型模拟厚胶显影轮廓
- 作者： 段茜 姚欣 陈铭勇 马延琴 刘世杰 唐雄贵 杜惊雷 来源： 光电工程 年份： 2006 文献类型 ： 期刊 关键词： 显影线宽 边墙陡度 显影轮廓 厚层抗蚀剂曝光模型
- 描述： 考虑厚胶曝光过程中非线性因素的影响及其显影特点,用一套随抗蚀剂厚度发生变化的曝光参数改进的Dill曝光模型,仿真厚层抗蚀剂光刻过程,并比较新曝光模型与原有Dill模型模拟的结果差异。模拟显示,用新曝光模型获得的厚抗蚀剂显影轮廓与实验结果吻合较好;并对厚胶光刻成像机理进行了讨论。通过分析正性厚层抗蚀剂AZ4562的显影轮廓,给出其显影线宽及边墙陡度随显影时间的变化规律,提出应以获得最大边墙陡度作为优化显影时间的思想。对厚度5μm和15μm的抗蚀剂,经计算,可获得良好的抗蚀剂浮雕轮廓的优化显影时间分别为98s和208s。
- 连续型衍射透镜激光直写技术研究
- 作者： 刘宏开 罗崇泰 王多书 陈焘 叶自煜 来源： 红外与激光工程 年份： 2006 文献类型 ： 期刊 关键词： 连续型衍射透镜 激光直写 光致抗蚀剂 连续型浮雕结构 微光学元件
- 描述： 研究了不同于台阶形式的具有连续浮雕结构的衍射聚光透镜的激光直写工艺。简要描述了光致抗蚀剂的曝光和显影,对激光直写工艺的机理和工艺过程进行阐述.利用 CLWS-300W/C 极坐标激光直写设备制作出了具有良好面形微结构和较高衍射效率的连续型衍射透镜。研究表明,激光直写技术直写精度高,加工工艺灵活,利用计算机的控制,能够根据光学设计产生的浮雕分布数据制作复杂的、任意形状和外形的微型浮雕结构,非常适合于高精度微光学元件的加工制作.