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根据【关键词:
干涉光刻
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陶瓷工艺
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2008
(1)
按来源分组
物理学报
(1)
关键词
大面积10000线/毫米软X射线金属型透射光栅的设计、制作与检测
作者：
朱伟忠
吴衍青
郭智
朱效立
马杰
谢常青
史沛熊
周洪军
霍同林
邰仁忠
徐洪杰
来源：
物理学报
年份：
2008
文献类型 ：
期刊
关键词：
软X射线干涉光刻
软X射线金属型透射光栅
严格耦合波方法
衍射效率
描述：
×1.5 mm,Cr浮雕厚度为50 nm,Gap/period为0.6,衬底Si3N4厚度为100 nm.此光栅将用于上海光源软X射线干涉光刻实验站.利用其
1
级衍射光和2级衍射光将可以经济高效地制作周期
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