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- 亚波长衍射微透镜的设计
- 作者： 刘玉玲 卢振武 任智斌 李凤有 曹召良 孙强 来源： 光子学报 年份： 2004 文献类型 ： 期刊 关键词： 微透镜 亚波长 衍射 时域有限差分法
- 描述： 设计了连续浮雕衍射微透镜和与其等效的二元亚波长衍射微透镜,采用旋转体时域有限差分法对通过计算机辅助设计出的元件进行了严格的矢量分析,给出了各元件在焦平面的场强分布.分析结果表明,本文设计的二元亚波长微透镜对连续浮雕微透镜有很好的等效效果;填充因子的脉冲宽度调制法要优于填充因子的线性近似法;制作相对误差不大时深度误差和宽度误差对微透镜聚光能力的影响不大.
- 雕塑曲面数控加工的动态仿真及误差检测
- 作者： 李光耀 叶佩青 王清辉 周来水 周儒荣 来源： 南京航空航天大学学报 年份： 1997 文献类型 ： 期刊 关键词： 雕塑曲面 数控切削 仿真 误差分析
- 描述： 讨论了雕塑曲面数控加工动态仿真及误差检测功能的实现方法，提出了雕塑曲面造型空间分割表示的仿真方法及利用ｚ坐标法进行误差检测。该方法不仅适用于实体造型系统而且适用于曲面造型系统，同时解决了实时仿真系统中计算精度与计算速度之间的矛盾。该功能已在“超人ＣＡＤ／ＣＡＭ／ＣＮＣ集成系统”中实现，效果良好。
- D类功放的魅力与实验
- 作者： 牛歌 来源： 电子制作 年份： 1996 文献类型 ： 期刊 关键词： 开关电源 开关状态 双差分 全对称 实验 功放 五彩缤纷 脉宽调制 程式 发展
- 描述： 当前音响界的发展可谓日新月异,五彩缤纷、相形之下,功放的发展却显得相对迟缓。变来变去脱不了双差分,全对称,纯甲类等的旧程式,没有什么根本的突破。数字音源和前级已走入千家万户,专用开关电源也为越来越多的人接受。功放的发展也到了革命的前夜。在此,笔者作一个大胆的预言,D类功放在发烧界崛起的时刻已经到来了。
- 螺旋连铸坯凝固过程仿真系统的开发
- 作者： 于得仁 雒兴刚 张茵麦 胡火生 刘祥 来源： 东北大学学报 年份： 2000 文献类型 ： 期刊 关键词： 数学模型 螺旋连铸坯 可视化 有限差分 凝固过程仿真系统
- 描述： 在建立了螺旋连铸坯传热数学模型并用有限插分法进行求解的基础上 ,应用VisualC ++编制了螺旋连铸坯仿真系统·系统采用多文档界面 ,支持用户交互输入数据·通过用户的输入数据建立三维的螺旋连铸坯模型·采用科学计算可视化的方法 ,以颜色值代表温度值 ,将温度值的变化动态直观地输出至界面·为便于观察连铸坯的局部 ,系统界面还支持三维模型的旋转、平移、动态缩小 /放大和局部放大等功能 ,从而为确定合理的拉坯速度和确定切分机构的理想位置提供了理论依据·
- 新疆五彩湾煤直接催化液化工艺研究
- 作者： 郭靖 马凤云 来源： 当代化工 年份： 2013 文献类型 ： 期刊 关键词： 溶剂 直接液化 方差分析 正交实验
- 描述： 以新疆五彩湾煤为研究对象,氢初压、液化时间和溶煤比为变量,选择三因子两水平的L8(27)正交实验,对加氢液化产物进行直观和方差分析,得出五彩湾煤适宜的液化条件。实验结果表明,五彩湾煤适宜的直接液化条件为:温度400℃、氢初压6.0 MPa、时间45 min、溶煤比=2∶1。
- 香椿(Toona sinensis)种源苗期试验初报
- 作者： 孙鸿有 蔡克孝 王隆护 来源： 浙江林学院科技通讯 年份： 1982 文献类型 ： 期刊 关键词： 苗木 相关性 场圃发芽率 种源试验 种子千粒重 香椿种源 方差分析 苗期 高径比 显著差异
- 描述： 香椿是我国珍贵的速生用材树种,有中国的桃花心木之称。其栽培历史悠久,分布范围很广,从南到北,遍及大半个中国。开展香椿种源试验,研究它的变异情况和规律,无疑在理论上和生产上都有重要意义。现将我们1981年所做的香椿种源苗期试验结果,报告如下:
- 深井大断面硐室稳定性控制技术研究*
- 作者： 乔富尚 李宝石 马浩吉 王朝垒 来源： 铜业工程 年份： 2018 文献类型 ： 期刊 关键词： 大断面硐室 有限差分法 联合支护 稳定性 数值模拟
- 描述： 为了解决某铜矿深井大断面配电硐室稳定性问题,通过在现场对配电硐室的工程地质情况进行调查,结合配电硐室的服务年限及用途,提出了“喷射混凝土+钢网+锚杆+长锚索”的联合支护方案,运用有限差分软件FLAC-3D建立配电硐室三维数值计算模型,模拟其开挖和支护过程。数值模拟计算结果表明,采用“喷射混凝土+钢网+锚杆+长锚索”的联合支护方案后,配电硐室的塑性区面积明显减小,应力得到释放,围岩的稳定性得到有效控制,可为某铜矿大型配电硐室进行支护提供一定的指导,对其它类似工程具有一定的借鉴意义。
- 深蚀刻二元光学技术制作准分子曝光系统均匀器
- 作者： 徐平 李景镇 来源： 中国科学：E辑 年份： 2000 文献类型 ： 期刊 关键词： 深蚀刻 曝光系统 准分子激光器 光束均匀性 二元光学均匀器 大规模集成电路 光能利用率 误差分析
- 描述： 利用深蚀刻二元光学理论和技术设计并制作了用于准分子激光器曝光系统的深蚀刻二元光学均匀器。与原来使用的积分均匀器（石英棒列阵）相比，该均匀器具有重量轻，安装调控方便，光能利用率高，光束均匀性好等特点，对该器件的设计性能和参数进行了研究、分析和计算机模拟；在高精度台阶仪上对所制作的深蚀刻二元光学均匀器进行了精密检测；用深蚀刻元件制作误差理论并引入“边界误差”概念，对元件的表面浮雕检测结果进行了深入的分析，理论与实验结果符合得很好。