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2015
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制造技术与机床
(1)
关键词
基于接近式光刻机的掩模移动曝光对准系统设计
作者：
佟军民
胡松
来源：
制造技术与机床
年份：
2015
文献类型 ：
期刊
关键词：
对准系统
掩模移动曝光技术
对准精度
接近式光刻机
描述：
提出了一种用于接近式
光刻机
的掩模移动曝光CCD图象对准系统,可以实现连续浮雕微光学元件的制作。由一次预对准和一次精对准实现基片的安装定位,先后通过两次预对准和两次精对准实现掩模的两次安装定位。CCD
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