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- 江师正型光刻胶全息特性的实验研究
- 作者： 陶世荃 朱伟利 来源： 影像材料 年份： 1982 文献类型 ： 期刊 关键词： 正型光刻胶 显影液 两种类型 光致抗蚀剂 位相全息图 附着力 衍射效率 浮雕全息图 正胶 最佳曝光量
- 描述： 光刻胶(光致抗蚀剂)是一种有机光敏材料,有正胶和负胶两种类型。负胶中,曝光时吸收了光的部分变成不溶性的,在显影阶段只有未曝光的部分被显影液除去,因而用负胶记录的浮雕像对基片的附着力强烈依赖曝光量。正胶则相反,胶层对基片已有足够的附着力,吸收的光子使分子发生光分解反应,因此材料软化,在显影阶段将曝光了的分子除去。故正胶是记录表面浮雕全息图的理想材料。国外广泛采用的是Shipley公司AZ-1350序列正胶,对这种光刻胶的性能已有全面研究。