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胡松
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陶瓷工艺
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2015
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制造技术与机床
(1)
关键词
基于接近式光刻机的掩模移动曝光对准系统设计
作者：
佟军民
胡松
来源：
制造技术与机床
年份：
2015
文献类型 ：
期刊
关键词：
对准系统
掩模移动曝光技术
对准精度
接近式光刻机
描述：
图象对准系统由两支完全相同且相互独立的光路组成,各光路分别照明掩模和基片上的标记后,清晰地呈现在CCD象面上,采集卡将CCD采集到的数据送入计算机,进行算法处理,给出X、Y、θ的偏差,从而调节掩模和基片的相对位置。该方案可以获得优于
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μm的对准精度,工作更为方便、易升级为自动对准。
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