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光刻胶灰化用于全息离子束刻蚀光栅制作
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作者:
徐向东
洪义麟
傅绍军
来源:
真空科学与技术学报
年份:
2003
文献类型 :
期刊
关键词:
离子束刻蚀
衍射光栅
光刻胶灰化
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描述:
针对全息离子束刻蚀衍射光栅制作中,光刻胶光栅浮雕图形的制作是至关重要和困难的,引入O2反应离子刻蚀对光刻胶光栅进行灰化处理,给出光刻胶灰化技术在全息离子束刻蚀衍射光栅制作闪耀光栅、浅槽矩形位相光栅、自支撑透射光栅中的具体应用.实验结果表明,这一新工艺的突出优点是降低了苛刻的全息曝光、显影要求,使得光栅线条光滑、线空比和槽深可控.