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- 用于惯性约束聚变束匀滑的完全连续相位板设计方法凹折射微透镜阵列的离子束刻蚀制作
- 作者： 陈波 王菡子 韦辉 郭永康 郭履容 张新宇 裴先登 汤庆乐 张智 易新建 来源： 光学学报 年份： 2001 文献类型 ： 期刊 关键词： 非线性有机溶液 光限幅器 消零级衍射
- 描述： 针对惯性约束聚变束匀滑对连续相位板的需要,用改进的盖师贝格撒克斯通(G-S)算法,进行了完全连续相位板(FCPP)设计方法的研究。在盖师贝格撒克斯通算法流程中,引入局部替代函数,设计出完全连续的深浮雕相位结构,消除了2π线。利用光刻热熔成形工艺及离子束刻蚀制作128×128元凹微透镜阵列。所制硅及石英凹微透镜的典型基本图形分别为凹球冠形、凹柱形和矩顶凹面形。分析了在光致抗蚀剂柱凹微透镜图形制作过程中的膜系匹配特性,与制作该种微透镜有关的光掩模版的主要结构参数,以及光致抗蚀剂掩模工艺参数的控制依据等。探讨了在凹微透镜器件制作基础上利用成膜工艺开展平面折射微透镜器件制作的问题。采用扫描电子显微镜(SEM)和表面轮廓仪测试了所制石英凹微透镜阵列的表面微结构形貌。给出了所制石英凹微透镜阵列远场光学特性的测试结果。