双层等折射率浮雕结构共振布儒斯特滤光片的泄漏模特性

日期:2010.01.01 点击数:6

【类型】期刊

【作者】吉世印 桑田 蔡托 刘华松 季一勤 王占山 

【刊名】红外与激光工程

【关键词】 泄漏模特性 共振布儒斯特滤光片 多模共振

【资助项】上海市科委科技基金资助项目,贵州省省长基金资助项目

【摘要】通过调整光栅的填充系数,获得具有均质层和光栅层等效折射率相等的表面浮雕结构共振布儒斯特滤光片.深入研究了这类滤光片的泄漏模特性,并讨论光栅参数和入射条件的变化对滤光片共振特性的影响.研究表明:入射角的改变对滤光片泄漏模特性的影响不明显,但填充系数、均质层厚度以及基底折射率的改变对滤光片泄漏模特性影响很大.当填充系数f→1和f<0.6时,以及当基底折射率接近波导层折射率(n→1.63)时,导模共振效应趋于消失.此外,随着均质层厚度的不断增大,多模共振效应将被激发,从而在一定的波长或入射角范围内导致多个泄漏模共振效应的产生.

【年份】2010

【期号】第3期

【作者单位】黔南民族师范学院物理系  都匀  (558000);黔南民族师范学院物理系  都匀  (558000);同济大学精密光学工程技术研究所物理系  上海  (200092);同济大学精密光学工程技术研究所物理系  上海  (200092)

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