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- GaAs(100)面光栅皱折的形成
- 作者： 刘枝伍 曹根娣 来源： 中国激光杂志 年份： 1981 文献类型 ： 期刊 关键词： 暗条纹 刻蚀技术 掩模 光致抗蚀剂 轮廓控制 图形转换 全息干涉 激光束 化学腐蚀 离子刻蚀
- 描述： 使用光致抗蚀剂的全息干涉曝光、显影方法在GaAs(100)面衬底上形成光致抗蚀剂光栅图形.采用选择化学腐蚀将光致抗蚀剂光栅浮雕图形转换到GaAs(100)面衬底上.已成功地在GaAs(100)面衬底上制作了周期为0.33微米的光栅皱折.在GaAs(100)面上的光栅皱折具有良好的V-形沟槽轮廓.
- 其他
- 作者： 暂无 来源： 中国光学与应用光学文摘 年份： 2001 文献类型 ： 期刊 关键词： 激光技术 海洋大学 显影液 光致抗蚀剂 光照度 实验研究 曝光时间 理论分析 青岛 衍射效率
- 描述： TQ437 2001042953光致抗蚀剂衍射效率的研究=Study of diffractive efficiencyof photoresists[刊,中]/陈骏,雷磊,王维理,王金城(青岛海洋大学物理系.山东,青岛(266003))//激光技术.-2000,24(5).-333在理论分析的基础上对光致抗蚀剂感光版做了大量的实验研究,通过改变光照度、曝光时间、显影液浓度和显影时间,得到了拍摄该光致抗蚀剂浮雕全息干涉条纹所
- 全息图模压复制技术(Ⅰ):浮雕型彩虹全息图的形成
- 作者： 赵业玲 谢敬辉 来源： 光学技术 年份： 1990 文献类型 ： 期刊 关键词： 模压复制 主全息图 复制技术 光致抗蚀剂 模压全息图 彩虹全息图 衍射效率 浮雕全息图
- 描述： 浮雕型彩虹全息图是全息图模压复制的基础,它从根本上决定了最后成品的质量和性能。本文在介绍普通彩虹全息图和2D/3D彩虹全息图的基础上,着重介绍了我们在实验中总结出的两种形成浮雕全息图的工艺技术,即用国产的BP-212紫外正型光致抗蚀剂制造浮雕全息图和用银盐感光材料PD法制造浮雕全息图的技术。
- 模压全息图的颜色设计及其记录方法
- 作者： 张静方 来源： 光学技术 年份： 1994 文献类型 ： 期刊 关键词： 主全息图 颜色设计 光致抗蚀剂 模压全息图 衍射效率 浮雕全息图
- 描述： 目前模压全息广泛地应用于商品标识、卡通、贺卡等，如何制作出色彩鲜艳、亮度高、清晰的模压全息图是至关重要的。本文从两束光干涉的简单模式讨论模压全息图的颜色设计，给出几种实用的和可能用的浮雕全息图的记录方法，并介绍常用光致抗蚀剂记录材料的特性及其处理工艺。
- 光致抗蚀剂全息图及其复制品的特性
- 作者： 岩田不二雄 辻内顺平 韩心得 来源： 光学技术 年份： 1981 文献类型 ： 期刊 关键词： 复制全息图 光致抗蚀剂 光谱灵敏度 体全息图 预曝光 曝光时间 参考光束 信噪比 衍射效率 曝光量
- 描述： 文章叙述了用光致抗蚀剂制造的表面浮雕全息图及其模压复制品的特性。阐明光致抗蚀剂金息图与其复制品的最高衍射效率几乎有相同的值——21～25%,而且原始全息图及其复制品的最高信噪比(SNR)都相当好。
- 光致抗蚀剂全息图及其复制品的特性
- 作者： 韩心得 来源： 光学精密工程 年份： 1979 文献类型 ： 期刊 关键词： 复制品 复制全息图 显影剂 光致抗蚀剂 体全息图 预曝光 信噪比 衍射效率 浮雕全息图 曝光量
- 描述： 试验研究了用光致抗蚀剂制造的表面浮雕全息图及用模压方法制取其复制品的特性。弄清了光致抗蚀剂全息图及其复制品的最高衍射效率几乎具有相同值—21—25％,而且原始全息图及其复制品的最高信噪比(S N R)都相当之好。
- 精确控制大数值孔径微透镜列阵面形的显影阈值方法
- 作者： 董小春 杜春雷 来源： 光学学报 年份： 2004 文献类型 ： 期刊 关键词： 显影阈值 正性光致抗蚀剂 光刻模型 面形控制
- 描述： 提出了一种可对大矢高、非球面微透镜阵列面形进行精确控制的新方法。针对不同面形的微透镜阵列 ,该方法首先对光致抗蚀剂表面的曝光分布进行设计 ,然后 ,利用光致抗蚀剂显影过程中的阈值特性 ,对微透镜的面形实行控制。当抗蚀剂显影速率接近 0时 ,即可获得设计的微透镜面形。该方法不仅大大提高了微透镜阵列矢高的加工范围 ,而且还减小了光刻材料显影特性对微透镜面形的影响 ,提高了微透镜阵列的面形控制精度 ,在实验中获得了矢高达 114 μm的微透镜阵列。最终实现了大浮雕深度、大数值孔径、非球面微列阵光学元件的面形控制。
- 江师正型光刻胶全息特性的实验研究
- 作者： 陶世荃 朱伟利 来源： 影像材料 年份： 1982 文献类型 ： 期刊 关键词： 正型光刻胶 显影液 两种类型 光致抗蚀剂 位相全息图 附着力 衍射效率 浮雕全息图 正胶 最佳曝光量
- 描述： 光刻胶(光致抗蚀剂)是一种有机光敏材料,有正胶和负胶两种类型。负胶中,曝光时吸收了光的部分变成不溶性的,在显影阶段只有未曝光的部分被显影液除去,因而用负胶记录的浮雕像对基片的附着力强烈依赖曝光量。正胶则相反,胶层对基片已有足够的附着力,吸收的光子使分子发生光分解反应,因此材料软化,在显影阶段将曝光了的分子除去。故正胶是记录表面浮雕全息图的理想材料。国外广泛采用的是Shipley公司AZ-1350序列正胶,对这种光刻胶的性能已有全面研究。
- 连续型衍射透镜激光直写技术研究
- 作者： 刘宏开 罗崇泰 王多书 陈焘 叶自煜 来源： 红外与激光工程 年份： 2006 文献类型 ： 期刊 关键词： 连续型衍射透镜 激光直写 光致抗蚀剂 连续型浮雕结构 微光学元件
- 描述： 研究了不同于台阶形式的具有连续浮雕结构的衍射聚光透镜的激光直写工艺。简要描述了光致抗蚀剂的曝光和显影,对激光直写工艺的机理和工艺过程进行阐述.利用 CLWS-300W/C 极坐标激光直写设备制作出了具有良好面形微结构和较高衍射效率的连续型衍射透镜。研究表明,激光直写技术直写精度高,加工工艺灵活,利用计算机的控制,能够根据光学设计产生的浮雕分布数据制作复杂的、任意形状和外形的微型浮雕结构,非常适合于高精度微光学元件的加工制作.